在2年前尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼，指二者在未经尼康允许将尼康专利用于旗下光刻机，扯皮两年多后，三方总算达成和解。2017年5月份，尼康起诉蔡司、ASML在未经授权的情况下使用其光刻机技术，并提出赔偿。不过随即，蔡司、ASML两家公司联手反诉尼康侵权。

在2017年4月24日，尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司发起法律诉讼，指二者未经尼康允许将尼康专利用在ASML的光刻机当中，要求二者赔偿尼康损失，并停制出售具有该技术的光刻机。ASML随后否认了尼康的指控，并在几天后起诉尼康，指后者在半导体生产设备、平面显示器和数码相机生产设备存在超过10项专利侵权，双方进入扯皮阶段。

光刻机是集成电路制造过程中的核心设备，也是提升先进工艺的拦路虎，中国半导体工艺提升不上去跟光刻机被禁售也有一定关系。在光刻机领域，特别是即将到来的EUV光刻机市场上，荷兰ASML公司现在成了唯一的选择，尽管一套EUV光刻机售价超过1亿欧元，但是Intel、三星、TSMC公司依然大把砸钱升级EUV光刻机。曾几何时，日本公司在光刻机领域也是称霸一方的，光学实力强劲的尼康、佳能也是光刻机市场巨头，不过现在日系公司在光刻机辉煌不再。意外的是，今天尼康公司宣布在全球起诉ASML及合作伙伴卡尔蔡司侵犯了尼康的专利权。

在光刻机领域，大家现在只知道荷兰ASML公司，EUV光刻机更是要看ASML的进展，但在90年代日本的尼康、佳能公司因为光学实力雄厚，在半导体制造装备领域开拓的也早，当年比ASML公司还要辉煌，Intel之前的半导体工厂就大量使用了尼康的Ar-F immersion光刻机，但是现在包括Intel、TSMC、三星及GF在内的主要半导体公司都转向了ASML的光刻机，前三家公司之前还大笔投资了ASML公司，以推动ASML公司的EUV光刻机研发，同时他们也是ASML EUV光刻机最主要的用户。

后两家去年宣布达成战略合作，ASML斥资20亿美元入股卡尔蔡司SMT公司，双方将合作研发数值孔径在0.5以上的EUV光刻机，可以进一步将目前0.33孔径光刻机的印刷尺寸从13nm减少到5nm，这些技术意义重大，不过难度也很高，预计到2024年才能有产品问世。

尼康在光刻机市场沉沦了这么久，今天忽然宣布起诉荷兰ASML及其合作伙伴卡尔蔡司SMT公司。尼康指出ASML去年76.3%的营收——大约是35亿欧元，都来自沉浸式光刻设备，尼康公司认为这些设备使用了他们的专利技术。尼康将寻求禁令停止侵权设备销售，并要求ASML及卡尔蔡司SMT赔偿他们的损失。

根据尼康所述，2001年他们就在美国起诉ASML公司侵犯了他们的沉浸式光刻技术专利权，2004年双方签署了交叉授权，旧的专利授权是永久性的，部分专利授权到2009年12月31日。

双方同时声明在2010年1月1日到2014年12月31日期间互不起诉双方的专利侵权。

对于尼康公司突然发起专利诉讼，ASML公司随后也作出公开回应，他们指出尼康的指控是毫无根据也毫无必要。过去的几年中，ASML一直希望跟尼康公司就专利授权延长展开谈判，但是尼康公司并未作出回应，现在选择采取法律行动，ASML对此感到失望。

不过ASML依然希望跟尼康公司达成和解，认为双方应该在市场上而非法庭上展开竞争。

在尼康起诉时ASML正如日中天，在高端光刻机市场份额超过9成，尼康则在光刻机市场节节败退。只是风水流水，尼康在向中国市场出售光刻机后重振了业务，ASML在EUV 极紫外光技术上举步维艰，Intel甚至出售了ASML股票。在这样的背景下，三者终于达成了和解，按照三方谅解备忘录，会撤销在欧洲、日本和美国多地所有法律诉讼，ASML、蔡司向尼康支付1.5亿欧元，从最终协议签署当天起，尼康与ASML交换未来十年0.8%沉浸式光刻销售收入。

经过一年的来回扯皮最终法院判定尼康赔偿蔡司、ASML两家47.5万欧元，尼康当然不服提起上诉。不过该事件近日有了结果，三家达成和解，蔡司、ASML支付尼康总额1.5亿欧元补偿（约折合人民币11.5亿元），此外，还将联合签署并支付10年的光刻机专利使用费用。