2020年11月26日消息，真空技术被用于许多高精度的制造过程中。典型应用包括半导体晶圆检查，晶圆键合，光刻和薄膜沉积。运动平台是这些复杂程序的组成部分，必须与真空环境兼容。

雷尼绍的TONiC UHV光学编码器是专为高真空和超高真空外壳设计的，符合FPD和半导体工艺设备的严格要求。总部位于韩国的VAD Instrument制造用于半导体，FPD和电子应用的各种精密运动平台。VAD选择雷尼绍的TONiC UHV编码器和RLE光纤激光编码器为其最新系列的真空兼容平台，这些平台可提供更好的运动控制性能。

真空台，用于半导体晶圆检查（AOI），配有RLE激光编码器系统

为了产生高质量的真空或超高真空（UHV），首先要通过一系列泵将空气从封闭空间（真空室）中排出。

许多现代精密工业过程是在真空环境中进行的，以最大程度地减少空气中污染物的影响。与真空兼容的运动平台由专门设计的轴承，导轨，丝杠和电机组成。电机热量的散发通常在真空中是有问题的，并且可以通过冷却系统严格控制。真空兼容组件的一个前提条件是，通过残留气体分析（RGA）测得的除气率可以忽略不计。

光学编码器组件（例如读数头和刻度尺）安装在真空室内，具有多种特性，包括耐高温（> 100°C），可以承受特高压所需的烘烤程序。其中包括高清洁度，以消除表面指纹，油和润滑剂；通风孔，以确保读数头内的空气空间完全通风；聚四氟乙烯绝缘和镀银铜编织电缆；和激光刻印，而不是去除粘合剂的标签。

对于最终用户，精心设计的真空设备可以减少抽气时间，更好的过程控制和更高的产量。

VAD设计和构建用于真空环境的定制精密运动平台和工艺设备。其运动控制产品使用雷尼绍的TONiC编码器系统，并根据精度要求指定了刻度。

VAD总裁Song Baek-Kyun Song先生解释说：“我们的通用平台型号配备了RTLC系列钢带秤。如果涉及先进的真空应用，例如显示面板AOI检查设备或半导体加工设备，我们将指定更高精度的RELM标尺。该秤由真空兼容的TONiC读数头读取，并连接到真空室外部的接口。市场上有许多高质量的编码器产品，但也很少与真空应用程序兼容。雷尼绍的TONiC UHV编码器具有出色的性能和可靠性，是我们的最佳选择。”

雷尼绍的TONiC UHV编码器，从电缆到读数头再到秤，都是为10 -9 mbar以下的真空压力而设计的。TONiC UHV读数头配有RFI屏蔽电缆，其基本工作原理，规格和性能与标准TONiC型号相同。编码器由无尘室和真空兼容材料制成，并设计成可完全排空读数头主体。TONiC UHV读数头和磅秤也已经通过独立的测试机构的认证，使用在四极质谱仪上收集的残留气体分析（RGA）数据进行认证。专业的密封箔纸包装可确保每个TONiC UHV编码器均在洁净室条件下到达客户手中。

TONiC编码器系列提供了多种读头选项，可以与各种兼容秤匹配。Song先生解释了VAD选择编码器标尺的标准：“我们的某些高端型号使用高精度RELM晶石标尺，该标尺具有接近零的热膨胀率，以确保在温差较大的环境中保持定位精度。

例如，真空室内的温度通常会从一侧到另一侧变化多达100°C。雷尼绍的编码器产品在市场上享有盛誉。TONiC编码器系列经常出现在高性能设备的应用中，并已得到业界的广泛认可。此外，雷尼绍的售后服务非常出色，其中包括定期的产品公告。对于我们来说，最重要的是交货要准时，这样我们就不会因为长时间等待零件而失去客户。”

为了达到纳米级的精度，VAD使用雷尼绍的RLE激光编码器系统对XY平台的位置反馈进行控制，该平台设计用于通过极紫外光检查半导体掩模。RLE系统使用安装在每个线性轴上的平面镜，适用于真空应用，因为激光头可以安装在真空室内。

宋先生继续说道：“雷尼绍为我们提供了经济高效的高性能位置反馈解决方案，并提供了出色的技术支持和定期培训。RLE激光编码器可为我们的前端半导体工艺设备提供纳米级精度，并具有易于安装和设置，交货期短的额外优势。”

雷尼绍XL-80干涉仪系统检查了线性位移台

VAD在出厂前使用雷尼绍的XL-80激光系统对产品进行测试和校准，以进行机器校准和质量控制。这些系统快速，极其精确，线性测量精度为±0.5 ppm，轻巧且便携。

雷尼绍的TONiC编码器系列，RLE激光编码器系统和XL-80激光干涉仪系统相结合，为VAD提供了适用于其运动平台的高级集成计量解决方案。

在真空应用中，具有20 µm节距RELM（ZeroMet™）刻度的TONiC UHV编码器可提供每米±1μm的绝对精度，并且热膨胀系数仅为0.75±0.35μm/ m /°C（在20 °C）。可以用自粘衬带或通过机械方式安装秤，以免粘合剂在真空下脱气。

RLE激光编码器具有低至38.6皮米的出色分辨率和低至±1 nm的系统非线性误差（SDE）。

宋先生总结说：“我们对真空应用设备的未来市场需求感到乐观。特别是FPD和半导体制造中的精密工业加工设备。目前，VAD正在为这些应用程序开发相关的处理平台。”