格罗方德推出业界首个300mm硅锗晶圆工艺,有助于进一步发展产品线

12月7日消息,格芯今天宣布其先进的硅锗(SiGe)产品9HP目前可用于其300mm晶圆制造平台的原型设计。这表明300mm生产线将形成规模优势,进而促进数据中心和高速有线/无线应用的强劲增长。借助格芯的300mm专业生产技术,客户可以充分提高光纤网络、5G毫米波无线通信和汽车雷达等高速应用产品的生产效率和再现性能。


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8月底Globalfoundries(格罗方德,简称GF)公司宣布放弃7nm及节点工艺研发,专注目前的14/12nm FinFET及22/12FDX工艺。这一变化导致AMD将7nm工艺的CPU、GPU芯片订单全部交给台积电代工,另一家公司IBM也选择台积电代工未来的Power处理器。GF放弃7nm工艺虽然让他们无法参与未来高性能CPU/GPU竞赛,不过对GF自己来说这次可以说甩掉了负担,现在他们专注更赚钱的RF射频芯片业务了,上周GF宣布推出业界首个300mm硅锗晶圆工艺,该技术提供出色的低电流/高频率性能,改善了异质结双极晶体管(HBT)性能,与之前的硅锗 8XP和8HP相比,最大振荡频率(Fmax)提高了35%,达到370GHz。


硅锗晶圆是一种特殊的半导体工艺,传统半导体是硅基晶圆为主,不过金属锗具备优秀的电气性能,成本与硅晶圆相当,比砷化镓工艺更低,在FR射频芯片中使用较多,该技术是IBM发明的,但GF公司收购了IBM的晶圆业务,继承了IBM在硅锗晶圆技术上的衣钵并发扬光大,这次推出的300mm硅锗晶圆就是业界首次,因为之前的硅锗晶圆主要使用200mm晶圆。


该工艺被称为9Hp(一种90nm硅锗工艺),相比目前的8XP/8HP使用的130nm工艺,9Hp工艺还提升到了90nm水平,其生产工厂迁移至纽约州东菲什基尔的格芯Fab 10工厂以实现300mm晶圆生产技术。


格芯是高性能硅锗解决方案的行业领导者,在佛蒙特州伯灵顿工厂用200mm生产线进行生产。将9Hp(一种90nm 硅锗工艺)迁移至纽约州东菲什基尔的格芯Fab 10工厂实现300mm晶圆生产技术,将会保持这一行业领先地位,并奠定300mm晶圆工艺基础,有助于进一步发展产品线,确保工艺性能持续增强和微缩。


「高带宽通信系统日益复杂,性能需求也随之水涨船高,这些都需要更高性能的芯片解决方案,」格芯的RF业务部副总裁 Christine Dunbar表示。「格芯的9HP旨在提供出色的性能,其300mm生产工艺将能够满足客户的高速有线和无线组件需求,助力未来的数据通信发展。」


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格芯的9HP延续了成熟的高性能硅锗BiCMOS技术的优势,支持微波和毫米波频率应用高数据速率的大幅增长,适用于下一代无线网络和通信基础设施,如 TB级光纤网络、5G毫米波和卫星通信(SATCOM)以及仪器仪表和防御系统。该技术提供出色的低电流/高频率性能,改善了异质结双极晶体管(HBT)性能,与之前的硅锗 8XP和8HP相比,最大振荡频率(Fmax)提高了35%,达到370GHz。


在纽约东菲什基尔的Fab 10工厂,正在进行基于多项目晶圆(MPW)的9HP 300mm工艺客户原型设计,预计2019年第二季度将提供合格的工艺和设计套件。在退出7nm高性能工艺节点研发之后,RF射频芯片相关的业务已经称为GF公司的重点。


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