科学家制作出高纯度红色发光二极管,基于二维无铅钙钛矿!

 开发能满足宽色域显示器要求的色坐标要求的红色发光二极管(LED),仍然是信息显示界面临的主要挑战。 在最新发表在《科学进展》的研究中,研究人员报告了具有满足Rec要求的  色坐标(0.708,0.292)  高效无铅(PEA)2 SnI 4钙钛矿LED(PeLED) 。使用戊酸(VA)(研究人员证明它与Sn 2+具有很强的配位性)可以减缓钙钛矿的结晶速率,从而改善膜的形貌。VA的掺入还保护了锡在成膜过程中免受不希望的氧化。改进的薄膜和减少的Sn 4+含量可使PeLED在20 cd / m 2的初始亮度下具有5%的外部量子效率和超过15小时的工作半衰期。这项工作说明了无镉和无铅PeLED在显示技术中的潜力。


相关论文以题为     “Color-pure red light-emitting diodes based on two-dimensional lead-free perovskites       ”      与北京时间2020年10月14号发表在     Science Advances      上。

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 宽色域显示器的出现激发高色纯度发光二极管(led)的发展     。       铅(Pb)基钙钛矿已经实现高色纯度和接近理论效率为绿光发射体,且外延生长的GaN LED已经在蓝色区域。但是,开发了具有国际照明委员会(CIE)颜色坐标Rec. 2100标准相匹配的高效红色LED仍未实现。  



 表1总结了当前可用的LED红色发射器的关键光学参数。 基于Cd和Pb钙钛矿的量子点(QD)由于其溶液处理,高亮度和光谱可调性已成为红色LED的候选材料。不幸的是,发射峰在波长超过640纳米,且半值宽度是大于30nm。  另外,Cd 2+和Pb 2+都是受管制物质。

 

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 在无铅和无镉的材料中,铟基量子点在630 nm处具有有效发射,但是发射线宽较宽,通常超过50 nm(15)。红色有机LED的发射范围更广(FWHM,> 60 nm)(16)。 无机半导体单晶,例如外延生长的GaAs,GaAlAs和GaAllnP,也已被开发用于红色LED。这些纳米晶体显示出约25 nm的窄FWHM。但是,发射集中在深红色区域(> 640 nm)内,并且显示出不对称的发射光谱,其色坐标为(0.70,0.30)。因此,人们对开发高效,以所需波长发射并具有足够窄的线宽的红色LED充满兴趣,而所有这些都需要同时满足Rec.2100色坐标规范。


 近年来,无铅锡(Sn),钙钛矿已经成为一个有前途的光电子材料。 钙钛矿中存在两个主要挑战:Sn 2+易于氧化成四价态(Sn 4+),尤其是在前体溶液中和成膜退火过程中,并且钙钛矿的结晶速率很高。比铅类似物更快。这些共同导致了高的Sn 2+空位缺陷密度和较差的薄膜形态和覆盖率。这导致激子快速非辐射an灭,并且整个薄膜的电荷传输不良,严重降低了Sn基钙钛矿LED(PeLED)的性能。


 为了解决Sn的氧化2+,可以添加还原剂如的SnF 2,的SnF 2 -吡嗪复杂,锡粉,和羟基苯磺酸的前体溶液。 这有助于推动锡基太阳能电池和光电探测器的发展。然而,PeLED更容易受到陷阱状态和不良胶片质量的影响。基于Sn的PeLED的进步要求对Sn PeLED的氧化和结晶动力学有更精确的了解,并需要更强大的策略来解决这些问题。


    VA和钙钛矿之间的相互作用  


研究人员首先寻求确定前体溶液和固态膜中VA和Sn基钙钛矿之间的相互作用。研究人员使用1 H核磁共振(NMR)和13 C NMR光谱研究了VA与Sn-钙钛矿前体之间的相互作用(图1)。  Sn钙钛矿前体通常是通过将PEAI(苯乙碘化铵)和SnI 2溶解在N,N'-二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)的混合物中而形成的。


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 图1 VA与钙钛矿前体和钙钛矿薄膜之间的相互作用。 DMSO-d 6溶液中VA,VA + PEAI和VA + SnI 2的1 H NMR(A)和13 C NMR(B)光谱。au,任意单位。(C)使用和不使用VA制备的PEA 2 SnI 4膜的FTIR光谱。(d)形成氢键的表示(O─H ... I)和配位键(C = O ... VA和PEA之间Sn)的相互作用2个SNI 4晶体。用(F)和不使用(E)制备的PEA 2 SnI 4薄膜的高分辨率Sn3d XPS光谱。)VA。用含有金属锡粉的前体制备原始膜。


    光学性质和载流子动力学  


用VA制备的PEA 2 SnI 4膜在612 nm处显示出窄的激子吸收峰,在〜630 nm处显示出光致发光(PL)发射峰(图2A),与PEA相比,蓝移了〜10 nm。在没有VA的条件下制备了2张SnI4膜。蓝移的发射峰可能是由于用VA制备的PEA 2 SnI 4膜的陷阱发射降低而导致的。PEA 2 SnI 4薄膜的量子产率(QY)从1.0±0.3%(原始)增加到7±3%(VA),增加了七倍,这归因于Sn 2+空位和陷阱态的降低。


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 图2 PEA 2 SnI 4中的光学性质和载流子动力学。  (A)PEA 2 SnI 4膜的吸收光谱和PL光谱(插图显示了在紫外光激发下的发光图像)。(B)时间分辨的PL和具有和不具有VA的PEA 2 SnI 4膜的相应拟合。没有(C)和(D)VA制备的PEA 2 SnI 4薄膜的fs-TA光谱的二维伪色图,表示为ΔOD(650nm激发后样品的吸收强度的变化)。延迟时间和探头波长。(E)PEA 2 SnI 4的TA信号在612 nm处形成薄膜,激发波长为650 nm,相应的延迟时间为0.4 ps。在此,将ΔOD归一化为每个波长的线性OD,以进行定量比较。(F)储存3个月后,在有和没有VA的情况下制备的PEA 2 SnI 4薄膜的归一化发射强度。


    设备结构和性能  


 研究人员试图利用这些改善的光致发光特性和薄膜形态来制造PEA 2 SnI 4 LED。 研究人员使用铟锡氧化物(ITO)玻璃基板阳极,聚(3,4-乙撑二氧噻吩):  聚苯乙烯磺酸盐(PEDOT:PSS)空穴注入层(HIL),活性PEA 2 SnI 4发射层, 1,3,5-三(N-苯基苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)电子传输层和氟化锂(LiF)/ Al双层阴极(图3A)。 如图3B所示的基于PEA 2 SnI 4的LED的能级图所示,价带最大能量为5.22 eV,这是通过将功函数和价带最大结合能相加而获得的,这两者均由紫外光电子能谱(UPS)测得。导带最小能量是通过加上光学带隙获得的,该带隙是根据吸收光谱的边缘计算得出的。


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 图3 LED结构,能量图和性能。  (A)在不同工作电压下的PEA 2 SnI 4 LED的器件结构,(B)能级图,(C)EL光谱和(D)归一化EL光谱。(插图是在7 V下工作的红色LED的工作照片。)(E)EL光谱的CIE 1931色度图中的色坐标。(F)亮度-电压-电流密度和(G)EQE-电流密度特性,以及(H)工作寿命和(I)发射光谱作为器件工作时间的函数。


    总结  


 研究人员开发的高纯度红色发光二极管,以通过添加戊酸(VA)来改善薄膜质量并保护Sn 2+免受氧化。 VA和Sn 2+之间的强相互作用降低了钙钛矿前体的结晶速率,从而改善了最终的膜形态。借助VA的双重优势,研究人员制造了PEA 2 SnI 4 LED,其外部量子效率(EQE)为5%,工作半衰期超过15小时,色坐标与Rec.3匹配。主要红色发射器的2100规范是迄今为止报告的无铅PeLED中最高的效率和稳定性。



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