据9月7日消息，半导体产业是高科技行业，技术门槛高，产值也高，全球半导体行业今年的产值有望达到5000亿美元。半导体制造不仅需要先进的光刻机，材料也是其中重要的一环，主要包括硅片、光刻胶、高纯度试剂、CMP材料，溅射靶材也是其中之一。国内溅射靶材行业龙头公司江丰电子日前表示该公司已经掌握了用于7nm工艺节点的金属溅射靶材核心技术，目前正在积极与客户沟通评价事宜。

高纯金属溅射靶材主要是指纯度为 99.9%-99.999%的金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备电子薄膜的关键材料。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

根据江丰电子的资料，该公司生产的金属溅射靶材主要有四种：铝、钛、钽、钨钛靶。除此之外，公司生产的其他产品包括铜靶、镍靶、钴靶、铬靶、陶瓷靶等溅射靶材以及金属蒸发料、LCD 用碳纤维复合材料部件(主要包括碳纤维支撑、碳纤维传动轴、碳纤维叉臂)等，同时公司对外出售从客户端回收的钽靶(含钽环)和钛靶(含钛环)等，并向客户提供环件的清洗翻新服务。

目前江丰电子生产的金属靶材纯度如下所示：

在金属溅射靶材方面，江丰电子是国内行业龙头，根据该公司于8月29日发布2018年半年度报告，2018年上半年营业收入2.96亿元，同比增长 18.11%;归母净利润 0.25 亿元，同比增长 19.48%。不过全球行业龙头霍尼韦尔今年上半年营收213亿美元，其中包括溅射靶材在内的先进材料业务2018年上半年营收达到14.55亿美元。在新一代制程工艺所用的溅射靶材方面，江丰电子今天公告称已经掌握了7nm节点工艺的金属溅射靶材的核心技术，目前正在积极与客户沟通评价事宜，不过该公司并没有提及具体详情。

江丰电子的客户包括台积电、Globalfoundries、联电、中芯国际等，不过现在7nm节点上只有台积电有量产，GF、联电都已经退出先进工艺研发，中芯国际的7nm工艺还在早期探索阶段。此外，掌握7nm工艺用的金属靶材跟掌握7nm工艺并不一样，靶材并不影响工艺先进程度。此外，半导体行业对新产品、新技术的接纳会有很长时间的认证测试过程，江丰电子在初次打入台积电供应链时用了5-8年时间，不过现在的认证时间已经大幅缩短到1-2年。